Runway: Chilenos levantan USD 8.5 millones en Estados Unidos y van por Adobe

La empresa, fundada el 2018 en Nueva York por dos chilenos, se ha posicionado como un l铆der en el desarrollo de herramientas creativas digitales usando inteligencia artificial (IA), de la mano de las cuales buscan competir con el gigante de la industria. 驴C贸mo lo hicieron? Ac谩 te contamos.

Runway, empresa con dos fundadores chilenos y que est谩 creando la  nueva generaci贸n de herramientas digitales para la industria creativa (cine, m煤sica, gr谩fica, etc.) acaba de cerrar una ronda de inversi贸n 鈥淪erie A鈥 por USD 8,5 millones en Estados Unidos, levantamiento de capital que es liderado por Amplify Partners con la participaci贸n de Lux Capital y Compound, todos fondos de venture capital de New York y San Francisco. 

La startup nacida en 2018, luego que sus fundadores, Crist贸bal Valenzuela, Alejandro Matamala y Anastasis Germanidis se conocieran mientras asist铆an a un postgrado en NYU, ha transformado la creaci贸n de contenido audiovisual, al lograr incluir tecnolog铆a de punta 鈥 como machine learning (aprendizaje autom谩tico)- a los procesos de edici贸n y post producci贸n de videos e im谩genes.

鈥淎vances e investigaciones recientes en inteligencia artificial est谩n catalizando un nuevo paradigma de creaci贸n, donde la capacidad de generar contenido sint茅tico y de automatizar los procesos de edici贸n van a cambiar radicalmente c贸mo creamos y distribuimos videos, im谩genes, audios, etc鈥, explic贸 el fundador de Runway, Crist贸bal Valenzuela. 鈥淐on Runway, estamos construyendo la columna vertebral para una nueva revoluci贸n creativa, permitiendo a artistas hacer cosas que eran imposibles hasta hace muy poco鈥.

Con esta 煤ltima ronda de inversi贸n, Runway alcanz贸 una financiaci贸n total de USD 10,5 millones; nuevo capital que le permitir谩 a la empresa, con oficinas en Brooklyn, el inicio de su siguiente fase de crecimiento, profundizando en sus equipos de investigaci贸n e ingenier铆a.

PRESENTE Y FUTURO

En la actualidad, la comunidad de usuarios de Runway incluye dise帽adores, cineastas y otros profesionales creativos dentro de empresas como R/GA, New Balance, Google e IBM; junto con haber sido adoptado por varias universidades internacionales para el desarrollo de sus ense帽anzas, dentro de las cuales se encuentran Harvard, NYU, RISD y el MIT. En tanto en Chile, la Pontificia Universidad Cat贸lica (PUC,) Universidad Adolfo Ib谩帽ez (UAI), y la Universidad de Las Am茅ricas (UDLA) han incorporado Runway en sus escuelas de dise帽o, animaci贸n y arquitectura. 

Los usuarios de la comunidad de Runway ya han entrenado m谩s de 50 mil modelos de Inteligencia Artificial en la plataforma, y han subido m谩s de  sobre 24 millones de archivos a la plataforma.

Hace solo unas semanas, Runway lanz贸 un nuevo producto, llamado 鈥淕reen Screen鈥 , herramienta que utiliza la tecnolog铆a de machine learning para automatizar el proceso de rotoscopia en videos y que permite transformar cualquier video en una pantalla verde con lo que los usuarios, profesionales o aficionados, pueden acceder a un significativo ahorro de tiempo y de recursos al momento de eliminar objetos del fondo de una composici贸n ya sea en imagen o video. 

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