Runway: Chilenos levantan USD 8.5 millones en Estados Unidos y van por Adobe

La empresa, fundada el 2018 en Nueva York por dos chilenos, se ha posicionado como un líder en el desarrollo de herramientas creativas digitales usando inteligencia artificial (IA), de la mano de las cuales buscan competir con el gigante de la industria. ¿Cómo lo hicieron? Acá te contamos.

Runway, empresa con dos fundadores chilenos y que está creando la  nueva generación de herramientas digitales para la industria creativa (cine, música, gráfica, etc.) acaba de cerrar una ronda de inversión “Serie A” por USD 8,5 millones en Estados Unidos, levantamiento de capital que es liderado por Amplify Partners con la participación de Lux Capital y Compound, todos fondos de venture capital de New York y San Francisco. 

La startup nacida en 2018, luego que sus fundadores, Cristóbal Valenzuela, Alejandro Matamala y Anastasis Germanidis se conocieran mientras asistían a un postgrado en NYU, ha transformado la creación de contenido audiovisual, al lograr incluir tecnología de punta – como machine learning (aprendizaje automático)- a los procesos de edición y post producción de videos e imágenes.

“Avances e investigaciones recientes en inteligencia artificial están catalizando un nuevo paradigma de creación, donde la capacidad de generar contenido sintético y de automatizar los procesos de edición van a cambiar radicalmente cómo creamos y distribuimos videos, imágenes, audios, etc”, explicó el fundador de Runway, Cristóbal Valenzuela. “Con Runway, estamos construyendo la columna vertebral para una nueva revolución creativa, permitiendo a artistas hacer cosas que eran imposibles hasta hace muy poco”.

Con esta última ronda de inversión, Runway alcanzó una financiación total de USD 10,5 millones; nuevo capital que le permitirá a la empresa, con oficinas en Brooklyn, el inicio de su siguiente fase de crecimiento, profundizando en sus equipos de investigación e ingeniería.

PRESENTE Y FUTURO

En la actualidad, la comunidad de usuarios de Runway incluye diseñadores, cineastas y otros profesionales creativos dentro de empresas como R/GA, New Balance, Google e IBM; junto con haber sido adoptado por varias universidades internacionales para el desarrollo de sus enseñanzas, dentro de las cuales se encuentran Harvard, NYU, RISD y el MIT. En tanto en Chile, la Pontificia Universidad Católica (PUC,) Universidad Adolfo Ibáñez (UAI), y la Universidad de Las Américas (UDLA) han incorporado Runway en sus escuelas de diseño, animación y arquitectura. 

Los usuarios de la comunidad de Runway ya han entrenado más de 50 mil modelos de Inteligencia Artificial en la plataforma, y han subido más de  sobre 24 millones de archivos a la plataforma.

Hace solo unas semanas, Runway lanzó un nuevo producto, llamado “Green Screen” , herramienta que utiliza la tecnología de machine learning para automatizar el proceso de rotoscopia en videos y que permite transformar cualquier video en una pantalla verde con lo que los usuarios, profesionales o aficionados, pueden acceder a un significativo ahorro de tiempo y de recursos al momento de eliminar objetos del fondo de una composición ya sea en imagen o video. 

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